Фотоліза UV Плазми Katalytic Integrated MachineКарактеристики виконання:
1. Плазма з низькою температурою є високотехнологічним продуктом з високою автоматизацією, простим процесом, легкою дією і зручністю Не потрібно присвяченого нагляду, автоматичного вимкнення і нагадування у випадку помилки. - Ні.
2. Збереження енергії: Низькі операційні витрати є однією з основних технологій "низької температури плазми", яка може обробляти 5000M3/годину запах з споживанням енергії лише 1000W.
Широкий діапазон адаптації: в середовищі з високою температурою 350 ° C, низькою температурою -20 ° C, очищувальна зона може працювати, особливо у вологому і навіть насиченому середовищі вологості повітря.
4, довгий термін служби обладнання: це обладнання складається з нержавіючої сталі, міді, епоксидної смоли та інших матеріалів, сильна антиоксидантність, в кислому газі. Термін служби більше 10 років.
Використання напруги в обладнанні "гіпотемпературної плазми" нижче 36 вольт, безпечне та надійне, не завдає шкоди людському тілу.
Механізм видалення забруднюючих речовин плазмовим УФ-фотолізом:А. розпад плазми:
1, низькотемпературна плазма розкладання забруднювальних речовин є використанням цих високоенергетичних електронів, вільних радикалів, таких як активні частинки та роль забруднювальних речовин у вихлопних газах, щоб молекули забруднювальних речовин розкладаються за короткий час, і наступні різні реакції для досягнення мети розкладання забруднювальних речовин.
2, серія HPDU плазменого очистителя органічних вихлопних газів використовує конструкцію абсорбції - розкладу - вуглецю _ нову технологію процесу, використовуючи стандартну конструкцію модулю та інші переваги, є сухим методом обробки органічних вихлопних газів очищення обладнання. Він змінив технологію процесу використання активного вуглецю, без необхідності обробки сировини, без особистої відповідальності, без вторинного забруднення, заміни та обслуговування зручно (можна замінити операції обслуговування при нормальній роботі обладнання).
3, HPDU серії плазмених органічних очищувачів вихлопних газів, не потрібно збільшити опор вітру помпового обладнання, проста установка, може бути виготовлена в групі відповідно до вимог клієнта на місці для зручності транспортування та установки. Компактна конструкція обладнання, низькі інвестиції, зручна експлуатація, виробництво продукту за допомогою стандартних матеріалів або повністю з нержавіючої сталі, обсяг обробки повітря 5000 ~ 50000 м3 / год;
4. Плазмовий очищувач органічних відходних гасів — це зараз обладнання для лікування індустріального забруднення органічних відходних гасів. Він використовує пульс з високою спеціальною енергією у плазмі і пристрій випуску зубних пластик для створення високої інтенсивності, високої концентрації і високої енергії активних вільних радикалів. За мілісекунди він миттєво проходить реакції на зменшення оксиді Користуючись сильними окислюючими і високими адсорпційними властивостями каталитичних окислюючих матеріалів, постійні реакції каталитичного окислювання виконуються на необроблені забруднюючі матеріали і створені матеріали в плазмі, що призведе до кінцевого випромінюванн
5. Новий структурний дизайн органічно об’ єднує пристрій виробництва плазми з низькою температурою та пристрій фотокаталітичного окиснення у тому ж пристрої очищення, максимізуючи ефективність композитного очищення і відповідаючи дизайновим вимогам маленьких відбитк
Зона фотолізу В:
1. У зоні фотолізу, після декількох стадій очищення для відповідності стандартів випромінювання, для випромінювання запахового газу використовується спеціально створений високоенергічний промінь Озону ВВ, змінюючи структуру молекулярного ланцюга запахового газу. Молекулярні ланцюги органічних або неорганічних сполучень з високою молекулярною вагою запахових сполучень деградуються
2. Використання високоенергічних та високоозонових університетних промінів для розкладу молекул кисню у повітрі для виробництва вільного кисню, також відомого як реактивний вид кисню. Завдяки небалансу позитивних та негативних електронів, що переносяться вільним киснем, він повинен комбінуватися з молекулами кисню
UV+O ₂ → O -+O * (reactive oxygen species) O+O ₂ → O3 (ozone), it is well known that ozone has a strong oxidizing effect on organic matter and has an immediate effect on odorous gases and other irritating odors.
3. Після вводу запахового газу в цей пристрій для чистення за допомогою випромінювання випромінювання, пристрій для чистення використовує високоенергічні УВ ультрафіолетові проміни та озон для синергічного розкладу і оксидизації запахового газу, що призведе до його деградації і перетворення на низьку молекулярну вагу сполучення, воду і вугл
Технічне обслуговування та уваги для плазмового УФ-фотолізного каталізу
1, встановлення плазмового ультрафіолетового фотолізного каталізу машинного обладнання _ строго відповідно до вимог нашої компанії, перед входом в обладнання слід встановити пил і повітряний фільтр, щоб уникнути входу пилу, що призводить до пошкодження обладнання та ефект обробки не відповідає стандартам;
2, плазма УФ фотолізу каталіз машинного обладнання, якщо встановлено на відкритому повітрі, _ встановити дощові шатири, щоб запобігти пошкодженню електрорезервуара обладнання дощовою водою;