CZA-4N/Очищення інертних газів серії FX

Серія CZA-4N/FX
Принцип очищення інертного газу полягає в тому, що використання сплаву адсорбентів при високій температурі може реагувати з такими забрудненнями, як кисень, азот, вода, вуглекислий газ та вуглеводні кислоти, щоб створити стабільні сполуки або тверді розчини, щоб видалити вищезгадані забруднення в аргоні, гелії, радоні, ксеноні та інших інертних газах, таким чином, щоб досягти мети очищення, отриманий після очищення високочистий газ широко використовується в аналізі та наукових дослідженнях напівпровідників, електроніки, металургії, виробництва літієвих батарей, оптичних вол
Особливості продукту
n глибокий рівень очищення, не тільки видаляє O₂Такі більш активні забруднення, а також можна видалити N₂інші інертні забруднення, які зазвичай не можуть очистити організм;
n Цей очиститель є подвійною вежевою структурою, один набір роботи, інший набір резервного, використовується верхня два очистителя;
Нижча робоча температура, менше споживання енергії.
n Ця серія очищувачів налаштовані з попередньою очищення вежі, до сплаву адсорбційної вежі було видалено більш активні забруднення, тому значно продовжує термін служби сплаву адсорбційної вежі
Технічні параметри

Назва пристрою	Модель пристрою	Спосіб роботи	Примітка
Очищення інертних газів	CZA-4N	Напівавтоматичний	Ar
	FX□-Z	Напівавтоматичний	Виберіть Ar, He, Xe, Ke або Ne
Вимоги до сирого газу Ar、He	Чистота	99,99% чистого аргону, рідкого аргону
	Вимоги до забруднень	O2≤200PPm, H2O≤1000PPm，N2≤100PPm
Вихідний чистий газ	Чистота	≥99.9999%
	Вміст забруднень	O2≤0.5PPm； N2≤0.5PPm； H2O≤1PPm (тобто точка роси≤-76 ℃); CO+CO2≤0.1PPm； Кількість частинок пилу (≥ 0,3 мкм) 3-5 шт / л
Робочий тиск	0～1.0MPa
Обробка обсягу газу	1～4Nm3/h
Примітка	Можна розробляти відповідно до вимог користувача